光刻是使用曝光將設(shè)計(jì)的掩模圖案轉(zhuǎn)移到基板的過(guò)程,URE-2000/35型紫外光刻機(jī)是專(zhuān)為實(shí)驗(yàn)室研發(fā)和小批量生產(chǎn)而設(shè)計(jì)的高分辨率光刻系統(tǒng)。光刻機(jī)提供良好的基板適應(yīng)性,可夾持的標(biāo)準(zhǔn)尺寸基板最大直徑為150mm。該設(shè)備提供多種曝光方式,包括真空、軟接觸、硬接觸等,可實(shí)現(xiàn)鍵合對(duì)準(zhǔn)、納米壓印、微接觸密封等多種功能。
1、穩(wěn)定的納米分辨率;
2、大面積全場(chǎng)曝光,無(wú)需拼接;
3、自由度不受限制,不影響厚膠和表面翹曲;
4、雙工作模式;
5、全息光刻模式:周期性納米結(jié)構(gòu);
6、掩模對(duì)準(zhǔn)光刻模式:任何微米結(jié)構(gòu);
7、簡(jiǎn)化的曝光工藝可實(shí)現(xiàn)一鍵式曝光;
8、靈活的定制解決方案。
URE-2000/35型紫外光刻機(jī)同類(lèi)產(chǎn)品的優(yōu)異輸出強(qiáng)度,出色的光束均勻性:3%的可用孔徑,更長(zhǎng)的弧光燈使用壽命:高達(dá)30000次曝光,即時(shí)啟動(dòng),無(wú)需超凈室,內(nèi)置凈化系統(tǒng)可以使系統(tǒng)在大氣環(huán)境中工作,無(wú)需主動(dòng)冷卻和外部冷卻,綠色技術(shù):高光能轉(zhuǎn)換率(EVU僅為0.02%),節(jié)能省電;傳統(tǒng)UV加工會(huì)存在以上問(wèn)題,光刻操作幾分鐘即可完成,維護(hù)簡(jiǎn)單。
URE-2000/35型紫外光刻機(jī)廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝、光波導(dǎo)、光柵、MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極管(LED)芯片制造、顯示面板LCD、光電器件、納米壓印和電子封裝。它的使用須知如下:
1、不要頻繁開(kāi)關(guān)汞燈;
2、水銀燈剛開(kāi)機(jī)需要預(yù)熱一段時(shí)間;
3、檢查氮?dú)狻DA壓力必須為0.6MPa,N2壓力必須為0.4MPa。