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紫外光刻機(jī)的主要性能指標(biāo)包括：支撐基板的尺寸范圍、分辨率、對(duì)位精度、曝光方式、光源波長(zhǎng)、光強(qiáng)均勻性、生產(chǎn)效率等。1、分辨率是描述光刻可以達(dá)到的最細(xì)線精度的一種方式。光刻機(jī)的分辨率受到光源衍射的限制，因此受到光源、光刻系統(tǒng)、光刻膠和工藝的限制...

紫外光刻機(jī)可廣泛用于MEMS和光電子，例如LED生產(chǎn)。它方便處理各種非標(biāo)準(zhǔn)基片、例如混合、高頻元件和易碎的III-V族材料，包括砷化鎵和磷化銦。而且該設(shè)備可通過選配升級(jí)套件，實(shí)現(xiàn)紫外納米壓印光刻。它具有以下亮點(diǎn)：高分辨率掩模對(duì)準(zhǔn)光刻，特征尺...

femto可調(diào)電流放大器是要求在帶寬值達(dá)200MHz從小電流轉(zhuǎn)換成可用的電壓應(yīng)用程序的佳選擇。它非常適合用于直流和交流測(cè)量值達(dá)200MHz，時(shí)間分辨測(cè)量到該ns區(qū)域和作為前置放大器可快速光電探測(cè)器信號(hào)。提供了包括可變?cè)鲆嬷祻?02到108V...

Harrick等離子清洗機(jī)在各個(gè)行業(yè)的清洗工作中起著非常重要的作用。等離子清洗機(jī)確實(shí)很強(qiáng)大，安全可靠，可用于各種環(huán)境領(lǐng)域和場(chǎng)合，實(shí)現(xiàn)高效安全使用。它的作用主要表現(xiàn)在這些方面。1、表面清潔Harrick等離子清洗機(jī)在運(yùn)行過程中可以對(duì)產(chǎn)品表面進(jìn)...

紫外光刻機(jī)是制造集成電路中重要的設(shè)備，特別是現(xiàn)在市面上大部分的芯片都是屬于電子芯片，當(dāng)電子芯片的工藝小于一定的尺寸的時(shí)候，就必須依靠光刻機(jī)在制作芯片，也就是說如果沒有光刻機(jī)就沒有辦法制造出頂級(jí)的芯片，比如市面上7nm芯片、5nm芯片等都不可...

紫外光刻機(jī)新一代紫外光源：172nm，具有同類產(chǎn)品良好的輸出強(qiáng)度，3%的可用孔徑，弧光燈使用壽命更長(zhǎng)。暴露高達(dá)30000次，瞬間啟動(dòng)，無(wú)需超凈室，內(nèi)置凈化系統(tǒng)可使系統(tǒng)在大氣環(huán)境中工作，無(wú)需主動(dòng)冷卻和外部冷卻，無(wú)有毒氣體和汞等物質(zhì)。高光能轉(zhuǎn)換...